| 聚醯亞胺(Polyimide,簡稱PI)是一種含有醯亞胺基的有機高分子材料,其製備方式主要是由雙胺類及雙酣類反應聚合成聚醯胺酸高分子 (Polyamic acid,簡稱PAA),之後經過高溫熟化脫水(Imidization) 形成聚醯亞胺高分子。由於具有優異的熱安定性及良好的機械、電氣及化學性質,一直是高性能高分子材料的首選,尤其在對材料要求嚴格的電子 IC工業上,一直處於關鍵性材料的地位,如高溫膠帶、軟性電路板、IC的鈍化膜(Passivation coating) LCD的配向膜,漆包線等絕緣材等等,當然其產值也不斷的增加中。 |
泛用型PI膜 (TH)
TH是一款泛用型的PI膜,市場上推出時間最久,品質穩定性深獲客戶信賴,同時具高柔軟性、良好的耐熱性及電氣性質等特性,符合各行各業使用。 | | | | | | | | | FEP塗佈絕緣膠帶
絕緣感應膠帶
飛機內艙絕緣
高溫壓電源保護
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Properties
| Test Items
| Units
| Taimide TH-012
| Taimide TH-025
| Taimide TH-050
| Taimide TH-075
| Test Condition
| Test Method
|
| Thickness厚度
| μm
| 12.5
| 25
|
|
| -
| -
| Mechanical
機械特性
| Tensile Strength
抗張強度
| Kgf/mm2
| 28
| 28
| 28
| 25
| 20℃
| ASTM D882
| Elongation
延伸率
| %
| 75
| 80
| 80
| 80
| 20℃
| ASTM D882
| Young's Modulus
彈性係數
| Kgf/mm2
| 350
| 340
| 340
| 320
| 20℃
| ASTM D882
| Electrical
電性
| Dielectric Breakdown Voltage
擊穿電壓
| KV/mil
| 6.0
| 5.8
|
| 2.5
| 60Hz, 20℃
| ASTM D149
| Dielectric Constant
介電常數
| -
| 3.2
| 3.2
| 3.2
| 3.2
| 1MHz, 20℃
| ASTM D150
| Dissipation Factor
散逸/消散因子
| -
| 0.007
| 0.007
| 0.007
| 0.007
| 1MHz, 20℃
| ASTM D150
| Volume Resistivity
體積抗阻
| Ω•cm
| >1016
| >1016
| >1016
| >1016
| 500V, 20℃
| ASTM D257
| Surface Resistance
表面抗阻
| Ω
| >1016
| >1016
| >1016
| >1016
| 500V, 20℃
| ASTM D257
| Thermal
熱性
| Coefficient of Thermal Expansion
熱膨脹係數
| ppm/℃
| <30
| <35
| <35
| <35
| 100~200℃
| ASTM D696
| Heat Shrinkage
尺寸安定性
| %
| <0.03
| <0.05
| <0.05
| <0.05
| 200℃, 2hr
| ASTM D5213-04
| Glass Transition Temperature(Tg)
玻璃轉化温度
| ℃
| >380
| >380
| >380
| >380
| -
| DMA
TMT Method
| Physical
物理性質
| Moisture Absorption
吸水率
| %
| 2.5
| 2.5
| 2.5
| 2.5
| 20℃, 24hr Immersion
| ASTM D570
| Density密度
| g/cc
| 1.46
| 1.46
| 1.46
| 1.46
| 20℃
| ASTM D1505
| Chemical
化學
| MEK丁酮
| Tensile Strength MD Retained
%
MD方向的抗張強度之維持比例
| 100
| 100
| 100
| 100
| 20℃, 10 min Immersion, then test after 24 hrs.
浸泡於溫度20度的液體下10分鐘後取出,在24小時之後再測試
| ASTM D882
| Benzene 苯
| 100
| 100
| 100
| 100
| Toluene甲苯
| 100
| 100
| 100
| 100
| Methanol 甲醇
| 100
| 100
| 100
| 100
| Acetone 丙酮
| 96
| 96
| 96
| 96
| 10%HCl,鹽酸10%
| 96
| 96
| 96
| 96
| 10%H2SO4,硫酸10%
| 98
| 98
| 98
| 98
| 5%NaOH,氫氧化鈉5%
| 85
| 85
| 85
| 85
| FeCl3綠化鐵
| 94
| 94
| 94
| 94
| CuCl2氯化銅
| 79
| 79
| 79
| 79
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| 高尺寸安定性PI膜 (TL)
TL膜是新一代的PI膜,除了提昇尺寸安定性、對細線及大面積電路板的生產控制更具優勢外,對膠的剝離強度也大幅提昇,增加產品的可靠度。 | | | | | | | - 高彈性模數及低熱膨脹係數
- 較佳的柔軟性
- 較高的剝離強度
- 較佳的MD/TD漲縮平衡
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| properties | unit | TH-012 | TL-012 | Method | | Thickness | um | 12.5 | 12.5 | TMT method | | Young's Modulus | kgf/mm2 | 340 | 420 | | | Elongation | % | 70 | 65 | ASTM D 882 | | Tensile Strength | kgf/mm2 | 26 | 28 | | | CTE (100~200oC) | MD | ppm/oC | 30 | 19 | TMA | | TD | 28 | 18 | TMA | | Heat Shrinkage | % | 0.04 | 0.02 | ASTM D 5214 | | Water Absorption | kgf/cm | 1.4
| 1.3 | ASTM D 570 |
| 智慧型手機專用-消光黑色PI膜 (BK)
BK是一款黑色消光PI膜,對線路具有高遮蔽能力,同時對光線具低反射之特性,可提升軟板之外觀質感,以及增加系統機構及組裝品質。 | | | | | | | - 不透光
- 低光線反射-消光型
- 高機械強度及操作性
- 高接著強度
- 極佳MD/TD漲縮平衡
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| | unit | BK-012 | BK-025 | Test Method | | Thickness | um | 12.5 | 25 | TMT method | | Tensile Strength | kgf/mm2 | 20 | 22 | ASTM D 882 | | Elongation | % | 45 | 65 | ASTM D 882 | | Young's Modulus | kgf/mm2 | 340 | 330 | ASTM D 882 | | CTE (100~200oC) | ppm/oC | 31 | 26 | TMA | | Dimensional Stability | % | 0.03 | 0.03 | ASTM D 5214 | | Peel strength | kgf/cm | 1.0 | 1.0 | IPC TM-650 | | Dielectric Constant | 1MHz | 4.6 | 4.4 | ASTM D 150 | | Dissipation Factor | 1MHz | 0.033 | 0.022 | ASTM D 150 |
| 超薄超高尺安PI膜 (TX)
TX具超高尺寸安全性,適用於一般FPC及IC封裝使用,同時具量產7um超薄膜之能力。 | | | | | | | | - TAB三層板
- IC封裝載板
- 顯示器用板
- 太陽能用板
- 電子書用板
| - IC封裝載板
- COF濺鍍二層板
- 軟性顯示器用板
- 細線路軟性印刷電路板
- 軟硬結合板及多層軟板
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| properties | unit | TH-012 | TL-012 | TX-012 | TX-007 | Method | | Young's Modulus | kgf/mm2 | 340 | 420 | 950 | 1000 | ASTM D 882 | | CTE (100~200oC) | ppm/oC | 28 | 18 | 9 | 7 | TMA | | Heat Shrinkage | % | 0.04 | 0.02 | 0.01 | 0.01 | ASTM D 5214 | | Water Absorption | % | 1.4 | 1.3 | 1.0 | 0.8 | ASTM D 570 |
| 可電鍍及封裝專用PI膜 (TA, Pomiran®)
本產品由達邁科技與日本荒川化學共同開發 | | | | | | | | - IC封裝載板
- 太陽能用板
- 顯示器用板
- 電子書用板
- COF濺鍍二層材
- COF化學電鍍二層材
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| | Pomiran® T | Pomiran® N | | 膜厚 (m) Thickness | 12, 25, 38 | | 推薦線路作法Suggested Process | 半加成法 (Semi-additive)減成法 (Subtractive) | | CTE (ppm/oC: 100-200oC) | 4 ppm=矽晶圓 | 18 ppm=銅 | | 剝離強度Peel strength with metal | ○ | ◎ |
| | 型號Type | 剝離強度(N/mm) | 加熱後剝離強度(150oC / 168H) | | 電鍍法Wet plating | N | 1.2 | 0.7 | | T | 0.9 | 0.5 | | 濺鍍法Sputtering | T | 0.8 | 0.6 | | 市售濺鍍材料Commercialized sputtering FCCL
| | 0.6 | 0.2 |
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